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  • GS-313D/GS-414D日本gs-clean自动式鞋底干式清洗机精密设备

    日本gs-clean自动式鞋底干式清洗机精密设备 GS-313D/GS-414D 干式自动售货机仅使用刷子进行干洗。非常适合沙子和灰尘等轻质污垢、面粉等遇水变质的污垢、精密设备、干燥工厂等。安装非常简单,您只需连接电源即可。

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    2024-10-12

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  • SKB2001N-01/SKB2003N-01千代田CHIYODA紫外UV清洗机用于显示器等

    千代田CHIYODA紫外UV清洗机用于显示器等 CHIYODA SKB2001N-01/SKB2003N-01 利用紫外线将有机污染物氧化并转化为挥发性物质,可有效去除有机污染物,且不会对材料表面造成热损伤或表面摩擦等损害,从而很好地去除。

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    2024-10-11

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  • SKB401Y-01/SKB1101N-01日本CHIYODA紫外线清洗装置用于有机EL等

    日本CHIYODA紫外线清洗装置用于有机EL等 CHIYODA SKB401Y-01/SKB1101N-01 利用紫外线将有机污染物氧化并转化为挥发性物质,可有效去除有机污染物,且不会对材料表面造成热损伤或表面摩擦等损害,从而很好地去除。

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    2024-10-11

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  • UV-208/UV-312日本techvision紫外线臭氧UV清洗装置高精度

    日本techvision紫外线臭氧UV清洗装置高精度 UV-208/UV-312 所谓UV(紫外线)臭氧清洗装置,是指照射特定波长的紫外线,生成臭氧(O3),利用该生成的臭氧使有机化合物氧化·分解,从而去除工件表面的有机物污染,进行表面改性的UV臭氧清洗装置。

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    2024-10-11

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  • TWC-200A日本进口techvision全自动光掩膜清洗装置

    日本进口techvision全自动光掩膜清洗装置 TWC-200A 全自动光掩膜清洗装置《TWC-200A》是一下子去除附着在掩模上的1μm以上的颗粒和抗蚀剂残渣的to盒的全自动光掩膜清洗装置。

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    2024-10-11

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  • TWC-302日本techvision光掩膜清洗装置用于半导体等

    日本techvision光掩膜清洗装置用于半导体等 TWC-302 光掩模的清洁化是提高产品成品率的必要条件!

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    2024-10-11

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  • TCC-803日本techvision盒式清洗装置用于晶片盒等

    日本techvision盒式清洗装置用于晶片盒等 TCC-803 TCC-803盒式清洗装置”型号是以高附加价值产品的制造工艺中使用的晶片盒、载体、盒等的精密清洗为清洗装置。这是一种适用于小批量多品种生产的紧凑型设备。

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    2024-10-11

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  • FJW系列日本taiseikogyo细泡喷射清洗机高度耐用

    日本taiseikogyo细泡喷射清洗机高度耐用 FJW系列 类型细泡喷射清洗机 目的这是清洁零件的洗衣机。

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    2024-10-11

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