日本filgen溅射镀膜机带蚀刻模式无热损伤 12151-AB/12151E-AB ●节省空间/台式溅射镀膜机 ●快速镀膜（金镀层在 20 秒内电流可达 200A）——对样品无热损伤。 ●可溅射/蚀刻 ●可以通过移动样品台来调整到目标的距离。 ●惰性气体 - 输入/输出端口/可进行样品台冷却 ●提供各种靶材（Au、Au/Pd、Pt、Pd、Ag）（可选）

日本filgen去除有机污染物UV臭氧清洗仪进口 UV253MINI UV253MINI是一种通过UV（紫外线）和臭氧的协同作用去除有机污染物的UV臭氧净化器。 通过有机溶剂清洗或超声波清洗等，可除去湿式清洗无法除去的有机污染物质。 UV灯具有两个短波长，即184.9nm产生臭氧效果高，253.7nm促进臭氧活化。

日本Filgen紫外臭氧有机溶剂超声波清洗仪 UV253V8/UV253V8R ●单独使用超声波清洗无法去除的基材上的有机污染物可以轻松去除。 ●湿法清洗中使用的有机溶剂也被去除。 ●可以在不损坏基材表面的情况下去除有机污染物。 ●LB膜的堆积变得容易。（累计率将大幅提升。） ●一种可在常压下使用且不需要真空装置的干洗设备。

日本进口filgen等离子镀膜机EVO涂层多功能 OPC60A 这是一种以SEM样品为主的导电性薄膜的制造装置，采用“利用直流辉光放电的负辉光相区域的等离子膜制造方法”。

日本Filgen等离子镀膜机用于导电性薄膜装置 OPC60A/OPC80T 电子显微镜试样用导电性薄膜制作装置等离子体涂布机 ◆膜专用型（OPC60A） ◆膜/等离子体聚合膜双用型（OPC80T） ◆导电性超薄膜制膜机构 ◆亲水化处理机构 ◆深型试样机构 ◆可选消耗品

日本DIC酸、碱、有机溶剂等液体脱气装置 PF-F系列 脱气膜采用PTFE，接触液体部全部为氟树脂制的脱气模组。可进行酸、碱、有机溶剂等液体的脱气。 可用于在半导体、LCD制造过程中使用液体的脱气、除泡（各种抗蚀剂、稀释剂、化学制剂等） 溶剂型喷墨墨水的脱气

日本DIC用于半导体/化学制剂等脱气装置 PF-F系列 脱气膜采用PTFE，接触液体部全部为氟树脂制的脱气模组。可进行酸、碱、有机溶剂等液体的脱气。 可用于在半导体、LCD制造过程中使用液体的脱气、除泡（各种抗蚀剂、稀释剂、化学制剂等） 溶剂型喷墨墨水的脱气

Xevios多用途清洗装置高压脉冲喷射清除异物 兼容晶圆、石英、玻璃、蓝宝石、SiC等多种材质。 结合高压间歇喷射、二流体喷射、各种刷子、超声波、化学溶液等，可应对从粗加工到各种清洗工艺。抛光后清洗至精密清洗。